来源：快科技 发表时间：2022-12-16 08:45 阅读量：5643
据韩国半导体和显示材料开发商BusinessKorea称，mdashmdash石墨烯实验室开发了基于石墨烯的EUV掩模保护膜，有望显著提高ASML极紫外系统生产的芯片成品率。
根据消息显示，掩膜保护膜是一种薄膜，可以保护掩膜表面免受空气中的小分子或污染物的影响，这对于先进工艺技术在5nm以下的节点工艺中的良率表现非常重要。
另外，口罩保护膜也是需要定期更换的耗材由于EUV光刻设备的光源波长较短，保护膜需要较薄的厚度以增加透光率
此前，硅已经被用于制作掩模保护膜，但石墨烯将是更好的材料，因为石墨烯制作的掩模保护膜比硅更薄，更透明。
报告还强调，EUV掩模保护膜必须能够承受曝光过程中800度或更高的高温，而基于石墨烯材料的掩模保护膜在高温下具有更好的硬化特性，与非常容易开裂的硅产品相比。
石墨烯实验室CEO kwon Yong—deok表示掩模保护膜以前是用硅做的，我们用的是石墨烯对于使用ASML EUV光刻设备的半导体企业来说，石墨烯掩膜保护膜将会提升晶圆制造良率我们准备好大规模生产了
石墨烯实验室指出，石墨烯EUV口罩保护膜一旦被采用，预计到2024年全球口罩保护膜市场将达到1万亿韩元，将有巨大商机包括TSMC，三星电子和英特尔在内的领先半导体制造商将成为石墨烯实验室的潜在客户
值得注意的是，今年早些时候，上游原材料供应商3M公司因环境问题关闭了其在比利时的工厂，导致相关原材料价格上涨此外，口罩保护膜厂家合并导致相关产品生产放缓，市场需求增长，导致口罩保护膜供应紧张，价格上涨
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